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銅靶通過(guò)真空濺射形成膜層,廣泛應(yīng)用于觸摸屏、半導(dǎo)體、傳感器、電路器件和裝飾品等行業(yè)的器件鍍膜。

元素符號(hào):Cu
純度:4N+
形狀:平面靶; 旋轉(zhuǎn)靶
外觀:紅銅色金屬
典型密度:8.57g/cm3
常規(guī)尺寸:平面靶: D500mm
旋轉(zhuǎn)靶: L4000mm
其它尺寸可定制