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鎳靶 (Ni)
索取該產(chǎn)品報價
鎳靶可通過真空濺射形成膜層，用于磁存儲介質、半導體、LED等行業(yè)器件鍍膜。
元素符號
:
Ni
純度
:
4N+
形狀
:
平面靶；旋轉靶
外觀
:
銀色金屬
典型密度
:
8.94g/cm3
常規(guī)尺寸
:
平面靶
: 2400x500x30mm
旋轉靶
: L3000mm
其它尺寸可定制
相關產(chǎn)品
鋁靶 (Al)
銅靶 (Cu)
錫靶 (Sn)
鈦靶 (Ti)
鎢鈦靶 (WTi)
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