鉭靶被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、磁性存儲(chǔ)介質(zhì)以及耐磨、耐腐蝕器件等領(lǐng)域的鍍膜。
| 元素符號(hào) | : | Ta |
| 純度 | : | 3N5+ |
| 形狀 | : | 平面靶；旋轉(zhuǎn)靶 |
| 外觀 | : | 深灰色金屬 |
| 典型密度 | : | 16.54g/cm3 |
| 常規(guī)尺寸 | : | 平面靶: 500x500x30mm 旋轉(zhuǎn)靶: L4000mm 其它尺寸可定制 |
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